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广东川海真空科技有限公司

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金刚石涂层系统

Ta-C涂层机

电弧离子镀涂层系统

1、电弧阴极磁场系统支持快速更换，操作简单便捷，显著提升设备利用与生产效率；<br>2、搭载高深宽比线性离子源，实现卓越的刻蚀绕射性与均匀性，保障涂层质量一致；<br>3、集成全自动控制与数据追溯系统，具备本地及远程智能诊断能力，运维无忧；<br>4、突破性装载设计，在维持高品质工艺的同时，大幅压缩生产周期，产能倍增；<br>5、模块化架构，赋予设备强大的硬件调整与升级能力，以最小投入快速拓展产品线。

HiPIMS涂层系统

技术优势：<br>1、“离子镀”级别的致密性，极高的离化率使得膜层超高致密性与卓越性能；<br>2、高沉积速率，其总的溅射产额远高于传统模式，生产效率显著提升，真正的低温沉积，离子能量高，其热负荷低；<br>3、表面质量的极致追求，极致光滑与无缺陷，工具涂层的理想选择；<br>4、将磁控溅射的“光滑、均匀、无大颗粒”优点，与离子镀的“高离化率、高致密性、强附着力”优点融为一体，实现了“鱼与熊掌兼得”。

复合离子涂层系统