1、采用复合镀膜技术，磁控溅射镀膜制备过渡层，具有极佳的结合力；
2、电磁+永磁搭配可以精确地将离子加速到最佳能量范围，有利于碳离子在基片表面形成高sp³键含量，从而获得极高的硬度和致密性；
3、合理的硬件架构设计，批量生产效率高，每批次生间时间最快2h/炉。