HiPIMS涂层系统

HiPIMS涂层系统

¥180,000.00
技术优势:
1、“离子镀”级别的致密性,极高的离化率使得膜层超高致密性与卓越性能;
2、高沉积速率,其总的溅射产额远高于传统模式,生产效率显著提升,真正的低温沉积,离子能量高,其热负荷低;
3、表面质量的极致追求,极致光滑与无缺陷,工具涂层的理想选择;
4、将磁控溅射的“光滑、均匀、无大颗粒”优点,与离子镀的“高离化率、高致密性、强附着力”优点融为一体,实现了“鱼与熊掌兼得”。
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